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PG电子微装主导的直写光刻技术国家标准正式实施
发布时间：
2024-09-30
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PG电子微装主导起草的直写光刻设备GB/T 43725-2024《直写成像式曝光设备》国家标准已通过国家标委会的审核，将于2024年10月1日正式实施。
当前，直写光刻设备在PCB及泛半导体领域广泛应用和发展，成为一种新兴的微纳加工设备，但在微纳加工产业装备产业中缺乏直写光刻设备的国家标准。直写光刻技术具备显著优势，诸如数字化掩模设计，无需传统掩模版，降低生产成本；简化工艺流程，大幅缩减生产周期；通过减少工艺步骤提高产品良率；并且易于实现智能化管控，为构建全自动无人工厂提供有力支持。
面对当前PCB及IC封装载板直写曝光设备市场的蓬勃兴起与技术日新月异的变化，本项国家标准旨在弥补行业标准空白，对设备的设计、制造、检测、安装维护、质量检测与保证等全生命周期环节设定统一、科学的技术规则，从而为行业构建一套完备的体系标准。
在标准制定的过程中，PG电子微装充分发挥自身的技术研发实力和丰富的实践经验，积极主导参与各个阶段的探讨、研究和验证工作，力求确保标准的科学合理性、适用范围广泛性和对未来技术发展的预见性。
PG电子微装将持续秉持严谨务实的态度，严格按照新标准执行各项工作，作为此项国家标准的主要起草者，并积极推动行业内企业参照执行。敬请关注我们在贯彻实施新国家标准方面的动态。
全国标准信息公共服务平台信息：
http://std.samr.gov.cn/gb/search/gbDetailed?id=14156507D23C0337E06397BE0A0AE656
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